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ZTM系列制冷加熱控溫系統(tǒng)用途特點(diǎn)： 能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

ZTM系列制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置，又稱高低溫一體機(jī)、制冷加熱一體機(jī)，為需冷卻或加熱設(shè)備如反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液，通過(guò)外循環(huán)的方式為反應(yīng)器皿提供熱源或冷源，達(dá)到反應(yīng)所需條件，控溫精度高。

上海密閉制冷加熱控溫系統(tǒng)也叫高低溫一體機(jī)，冷熱一體機(jī)，制冷加熱循環(huán)裝置，主要對(duì)需要加熱或制冷的設(shè)備，比如玻璃反應(yīng)釜，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液，溫度范圍從-80℃至200℃，性能*，高精度、智能溫度控制。

廣州ZTM系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置 密閉制冷加熱循環(huán)裝置是一種提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，也叫高低溫循環(huán)一體機(jī)，分制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為玻璃反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、浴槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

長(zhǎng)城密閉制冷加熱循環(huán)裝置廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。

ZTM風(fēng)冷型密閉制冷加熱控溫系統(tǒng)整機(jī)方案$n$n整套系統(tǒng)由制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、循環(huán)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。

ZTM水冷型制冷加熱循環(huán)裝置由制冷、預(yù)冷、加熱、循環(huán)、控制系統(tǒng)組成。整個(gè)液體循環(huán)是密閉的系統(tǒng)，低溫時(shí)沒(méi)有水汽的吸收，高溫時(shí)沒(méi)有油霧的產(chǎn)生，提高導(dǎo)熱油使用壽命；同一臺(tái)設(shè)備，同一種導(dǎo)熱介質(zhì)可實(shí)現(xiàn)-80度到200度連續(xù)控溫。制冷量0.3KW~18KW范圍可選。

加熱冷卻恒溫試驗(yàn)裝置是一種提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，也叫密閉制冷加熱循環(huán)裝置，分制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為玻璃反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、浴槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

反應(yīng)釜冷卻加熱控溫系統(tǒng)由溫度傳感器安裝于反應(yīng)釜內(nèi)部，控制面板上設(shè)置、顯示溫度反應(yīng)釜溫度一致，適用于溫度控制精度要求較高的情況。目前，絕大多數(shù)化工專用高低溫循環(huán)一體機(jī)采用了PID控制技術(shù)，對(duì)影響反應(yīng)釜溫度的各種因素進(jìn)行補(bǔ)償。在化工專用高低溫循環(huán)一體機(jī)選配過(guò)程中，加熱功率和媒體循環(huán)的壓力、流量也都是須考慮的因素。

防爆制冷加熱循環(huán)裝置是鄭州長(zhǎng)城科工貿(mào)有限公司為滿足爆炸性環(huán)境的使用條件，特別根據(jù)客戶的實(shí)際要求而研發(fā)定制的密閉制冷加熱循環(huán)裝置，整套裝置由制冷、預(yù)冷、加熱、循環(huán)、控制系統(tǒng)組成。整個(gè)液體循環(huán)是密閉的系統(tǒng)，低溫時(shí)沒(méi)有水汽的吸收，高溫時(shí)沒(méi)有油霧的產(chǎn)生，提高導(dǎo)熱油使用壽命；同一臺(tái)設(shè)備，同一種導(dǎo)熱介質(zhì)可實(shí)現(xiàn)-80度到200度連續(xù)控溫。制冷量0.3KW~18KW范圍可選。

閉制冷加熱控溫系統(tǒng)，全封閉冷熱循環(huán)機(jī)可用于制備用于制冷加熱溫度控制的不同體積尺寸的反應(yīng)器。由于不同尺寸反應(yīng)堆的熱量不同，吸熱或放熱的能力不同，因此選擇的冷卻再循環(huán)裝置的選擇需要提供精確的反應(yīng)堆尺寸，溫度要求，材料等條件需要選擇加熱選擇制冷循環(huán)裝置制造商，避免選擇或大或小導(dǎo)致溫度要求。

制冷加熱控溫系統(tǒng)：工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。

密閉制冷加熱循環(huán)控溫系統(tǒng)能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

實(shí)驗(yàn)室液體制冷加熱循環(huán)機(jī)能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)機(jī)能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置-80℃~200℃能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

制冷加熱循環(huán)裝置配套反應(yīng)釜，能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置ZT系列能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。